K&F Concept Nano-X Ultra-Low Reflection Circular Polarizer Filter 62mm

„K&F Concept Nano-X“ itin mažo atspindžio žiedinis poliarizacinis (CPL) filtras yra aukščiausios klasės optinis aksesuaras, skirtas fotografams, siekiantiems pagerinti vaizdo kokybę mažinant akinimą ir atspindžius. Pagamintas iš japoniško AGC optinio stiklo su pažangia 28 sluoksnių „Nano-X“ danga, šis filtras pasiekia itin mažą atspindžio koeficientą (<0,1 %), užtikrindamas išskirtinį šviesos pralaidumą ir spalvų tikslumą. Itin plonas 3,3 mm aviacinio aliuminio lydinio rėmelis sumažina vinjetavimą, todėl jis idealiai tinka plataus kampo objektyvams.

Privalumai

Šis CPL filtras efektyviai mažina atspindžius nuo nemetalinių paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, pagilina mėlyną dangų, padidina spalvų sodrumą ir kontrastą. Vandeniui, aliejui ir įbrėžimams atsparios dangos užtikrina ilgaamžiškumą ir lengvą valymą. Poliarizacijos laipsnis siekia iki 99,9 %, todėl gaunami profesionalūs rezultatai.

Tinka

• Kraštovaizdžio fotografijai – pagilinti dangų ir sumažinti miglą
• Vandens ir stiklo fotografijai – pašalinti atspindžius
• Lauko ir kelionių fotografijai – ryškioms spalvoms
• Objektyvams su 62 mm filtro sriegiu

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: žiedinis poliarizacinis (CPL)
• Filtro skersmuo: 62 mm
• Serija: „Nano-X“ serija
• Danga: 28 sluoksnių „Nano-X“ daugiasluoksnė danga
• Atspindžio koeficientas: <0,1 %
• Stiklo medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Šviesos mažinimas: 1–2 diafragmos (atitinka ND2–ND4)
• Poliarizacijos laipsnis: iki 99,9 %
• Ypatybės: atsparus vandeniui, aliejui, įbrėžimams

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite šį filtrą su objektyvo gaubtu, kad išvengtumėte šalutinės šviesos. Įsitikinkite, kad filtras yra tvirtai prisuktas prie objektyvo. Valykite mikropluošto šluoste, kai reikia.