K&F Concept Nano-X MRC UV filtras, skirtas Fujifilm X100 serijai (juodas rėmelis)

„K&F Concept Nano-X MRC UV“ filtras yra aukščiausios klasės objektyvo apsaugos sprendimas, specialiai sukurtas „Fujifilm X100“ serijos fotoaparatams, įskaitant X100, X100S, X100V, X100F ir X100VI. Šis pagal užsakymą pritaikytas filtras pakeičia originalų priekinį žiedą, užtikrindamas vientisą integraciją ir nepriekaištingą vaizdo kokybę.

Privalumai

Šis UV filtras turi daugiaatsparią dangą (MRC), užtikrinančią aukščiausią apsaugą nuo įbrėžimų, vandens, riebalų ir atspindžių. Dėl didesnio nei 99,6 % šviesos pralaidumo jis minimaliai veikia vaizdo aiškumą, efektyviai sumažindamas UV spindulių ir miglos poveikį. Itin plonas aviacinio aliuminio lydinio rėmelis išlaiko kompaktišką fotoaparato profilį.

Tinka

• Fujifilm X100
• Fujifilm X100S
• Fujifilm X100V
• Fujifilm X100F
• Fujifilm X100VI

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: UV filtras
• Danga: Nano-X daugiaatspari danga (MRC)
• Stiklo medžiaga: aukštos raiškos optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio dizainas: itin plonas
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Atsparumas vandeniui: taip (hidrofobinis)
• Atsparumas riebalams: taip (oleofobinis)
• Atsparumas įbrėžimams: taip
• Antirefleksinis: taip
• UV sugertis: taip
• Spalva: juoda (rėmelis)

Rekomendacijos

Siekiant optimalios apsaugos ir vaizdo kokybės, naudokite šį filtrą kaip nuolatinę objektyvo apsaugą. Dėl pritaikyto dizaino jis nesukelia vinjetavimo ir yra lengvai montuojamas.