K&F Concept Nano-X Series 52mm Hybrid 2-in-1 filtras CPL + kintamas ND4-ND64 (KF01.1911)

K&F Concept Nano-X Series hibridinis 2-in-1 filtras sujungia apskritą poliarizatorių (CPL) ir kintamą neutralaus tankio (ND) filtrą viename itin ploname rėmelyje. Sukurtas 52 mm objektyvo sriegiams, šis filtras leidžia fotografams sumažinti atspindžius, pagerinti spalvų sodrumą ir kontroliuoti ekspoziciją 2–6 ND diapazone (ND4-ND64). Pagamintas iš japoniško AGC optinio stiklo su daugiasluoksnėmis nanodangomis, jis pasižymi vandeniui atspariomis, atspariomis įbrėžimams, antirefleksinėmis ir alyvai atspariomis savybėmis, užtikrinančiomis patikimą naudojimą lauke.

Privalumai

Šis hibridinis filtras pašalina poreikį sukrauti kelis filtrus, taupo laiką ir sumažina vinjetavimo riziką. CPL efektyviai pašalina akinimą nuo vandens, stiklo ir lapijos, o kintamas ND leidžia sklandžiai filmuoti vaizdo įrašus ir daryti ilgas ekspozicijas ryškioje šviesoje. Avialiuminio lydinio rėmelis yra lengvas, bet patvarus, o itin plonas dizainas užtikrina suderinamumą su plataus kampo objektyvais.

Tinka

• Kraštovaizdžio fotografams, norintiems pagilinti mėlyną dangų ir kontroliuoti ekspoziciją
• Vaizdo įrašų kūrėjams, kuriems reikia sklandaus judesio suliejimo ir mažesnio užrakto greičio
• Kelionių fotografams, ieškantiems kompaktiško, viskas viename filtro sprendimo
• Fotografavimui lauke ryškioje saulės šviesoje arba atspindinčiose aplinkose

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: Hibridinis (kintamas ND + CPL)
• Filtro skersmuo: 52 mm
• ND diapazonas: ND4 iki ND64 (2–6 stopai)
• Poliarizatorius: Apskritas poliarizatorius (CPL)
• Optinė medžiaga: Japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: Avialiuminio lydinys
• Dangos: Daugiasluoksnės nano (vandeniui atsparios, atsparios įbrėžimams, antirefleksinės, alyvai atsparios)
• Serija: Nano-X Series
• Suderinamumas: Objektyvai su 52 mm filtro sriegiu

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite su objektyvo gaubtu, kad sumažintumėte atspindžius. Kintamas ND gali sukelti kryžminės poliarizacijos artefaktus esant maksimaliam tankiui; venkite kraštutinių nustatymų kritiniam darbui. Laikykite pateiktame dėkle, kad apsaugotumėte dangas.