K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm UV filtras

„K&F Concept UV NANO-X PRO MRC 55mm“ yra aukštos kokybės UV filtras, skirtas apsaugoti objektyvą ir pagerinti vaizdo aiškumą. Dėl pažangios 28 sluoksnių daugiafunkcinės dangos (MRC) ir nanodangos užtikrina itin didelį šviesos pralaidumą – virš 99,6 %, todėl vaizdo kokybė beveik nepablogėja. Filtras efektyviai blokuoja 99,9 % UV spindulių, sumažina miglą ir pagerina kontrastą fotografuojant lauke.

Privalumai

Šis filtras užtikrina esminę objektyvo apsaugą nuo dulkių, drėgmės, įbrėžimų ir smūgių, nepablogindamas optinių savybių. Itin plonas rėmelis (3,3 mm) apsaugo nuo vinjetavimo naudojant plačiakampius objektyvus, o priekinis sriegis leidžia montuoti papildomus filtrus arba objektyvo dangtelį. Vandeniui, riebalams ir įbrėžimams atsparios dangos palengvina valymą ir priežiūrą.

Tinka

• Fotografams, naudojantiems objektyvus su 55 mm filtro sriegiu
• Fotografuojant lauke ir peizažus, siekiant sumažinti miglą ir pagerinti aiškumą
• Vertingų objektyvų apsaugai nuo aplinkos veiksnių

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: UV filtras
• Filtro skersmuo: 55 mm
• Serija: Nano-X Pro
• Dangos: 28 sluoksnių daugiafunkcinė danga (MRC) + nanodanga
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Optinė medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Atsparus vandeniui, riebalams, įbrėžimams, antirefleksinis
• UV mažinimas: blokuoja 99,9 % UV spindulių
• Filtro faktorius: 1 (nereikia ekspozicijos korekcijos)
• Priekinis sriegis: taip (leidžia sukrauti)

Rekomendacijos

Siekiant optimalaus veikimo, šį UV filtrą naudokite su objektyvo gaubtu, kad sumažintumėte atspindžius ir apsaugotumėte nuo šalutinės šviesos. Reguliariai valykite filtrą mikropluošto šluoste, kad išlaikytumėte hidrofobines ir oleofobines savybes.