K&F Concept Nano-X MRC UV filtras itin mažo atspindžio 55mm

K&F Concept Nano-X MRC UV filtras yra aukštos kokybės objektyvo aksesuaras, skirtas apsaugoti objektyvą ir pagerinti vaizdo kokybę. Jame naudojama pažangi Nano-X daugiasluoksnė danga (MRC) su 28 sluoksniais, užtikrinanti daugiau nei 99,6 % šviesos pralaidumą ir mažiau nei 0,3 % atspindį, taip užtikrinant itin mažą atspindį ir puikų aiškumą. Filtras pagamintas iš japoniško AGC optinio stiklo ir aviacinio aliuminio lydinio rėmelio, pasižymi ilgaamžiškumu ir plonu 3,3 mm profiliu. Jis atsparus vandeniui, aliejui, įbrėžimams ir statinei elektrai, todėl puikiai tinka lauko ir studijinei fotografijai. Dvigubas sriegis leidžia montuoti papildomus filtrus arba objektyvo gaubtus.

Privalumai

Itin mažas atspindys sumažina akinimą ir šviesos atspindžius, pagerindamas kontrastą ir spalvų tikslumą. Daugiasluoksnė danga apsaugo nuo vandens, aliejaus, įbrėžimų ir statinės elektros, užtikrindama lengvą valymą ir ilgalaikį veikimą. Itin plonas rėmelis apsaugo nuo vinjetavimo plačiakampiuose objektyvuose.

Tinka

• Fotografams, ieškantiems objektyvo apsaugos neprarandant vaizdo kokybės
• Lauko ir peizažinei fotografijai, siekiant sumažinti atmosferinį rūką
• Studijiniam darbui, reikalaujančiam didelio šviesos pralaidumo ir minimalių atspindžių

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: UV filtras
• Filtro skersmuo: 55 mm
• Danga: Nano-X daugiasluoksnė danga (MRC), 28 sluoksniai iš abiejų pusių
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Atspindžio koeficientas: <0,3 %
• Stiklo medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Sriegio tipas: dvigubas sriegis (priekyje ir gale)
• Atsparus vandeniui, aliejui, įbrėžimams ir statinei elektrai

Rekomendacijos

Siekiant optimalaus veikimo, šį UV filtrą rekomenduojama naudoti su objektyvo gaubtu, kad būtų sumažinta išsklaidyta šviesa. Valykite mikropluošto šluoste, kad išlaikytumėte dangos vientisumą. Tinka tiek mėgėjams, tiek profesionalams.