K&F Concept Nano-C HMC CPL apskritas poliarizacinis filtras 67 mm

K&F Concept Nano-C HMC CPL filtras yra aukštos kokybės apskritas poliarizatorius, skirtas fotografams, norintiems pagerinti spalvų sodrumą, sumažinti atspindžius ir pagilinti mėlyną dangų. Su 67 mm skersmeniu ir pažangia Nano-C daugiasluoksne danga šis filtras užtikrina puikų optinį našumą, kartu apsaugodamas objektyvą.

Privalumai

Šis filtras efektyviai pašalina nepageidaujamus atspindžius nuo nemetalinių paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, padidina kontrastą ir praturtina spalvas. 28 sluoksnių dvispalvė danga užtikrina aukštą šviesos pralaidumą, atsparumą vandeniui, aliejui, įbrėžimams ir antistatines savybes. Itin plonas 3,3 mm aviacinio aliuminio lydinio rėmelis apsaugo nuo vinjetavimo plačiakampiuose objektyvuose.

Tinka

• Kraštovaizdžio fotografijai, siekiant pagerinti mėlyną dangų ir debesis
• Vandens ir stiklo fotografijai, siekiant sumažinti akinimą
• Lauko ir kelionių fotografijai, siekiant sodresnių spalvų
• Objektyvams su 67 mm filtro sriegiu

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: apskritas poliarizatorius (CPL)
• Filtro skersmuo: 67 mm
• Danga: Nano-C daugiasluoksnė (HMC), 28 sluoksniai
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Stiklo medžiaga: aukštos raiškos optinis stiklas
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Šviesos sumažinimas: 1-2 diafragmos
• Sukimas: 360° sklandus
• Priekinis filtro sriegis: taip

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite šį filtrą su objektyvais, turinčiais 67 mm filtro sriegį. Jį galima derinti su kitais filtrais arba objektyvo dangteliu. Venkite naudoti su itin plačiakampiais objektyvais, turinčiais išsikišusį priekinį elementą, kad išvengtumėte mechaninio vinjetavimo.