K&F Concept Nano-C HMC CPL apskritas poliarizacinis filtras 58 mm

Peizažo ir lauko fotografai dažnai susiduria su nepageidaujamais atspindžiais ir išblukusiu dangumi. K&F Concept Nano-C HMC CPL apskritas poliarizacinis filtras, 58 mm, išsprendžia šią problemą pašalindamas akinimą nuo vandens, stiklo ir augalijos, o taip pat pagilina mėlyno dangaus atspalvį, kad nuotraukos būtų dramatiškesnės ir sodresnės. Itin plonas aviacinio aliuminio rėmelis ir japoniškas AGC optinis stiklas užtikrina ryškumą be vinjetės net ir naudojant plačiakampius objektyvus.

Pagrindinės specifikacijos

• Tipas: apskritas poliarizacinis (CPL)
• Skersmuo: 58 mm
• Danga: Nano-C HMC (18 sluoksnių, po 9 kiekvienoje pusėje)
• Optinė medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelis: aviacinio aliuminio lydinys, itin plonas 3,3 mm profilis
• Šviesos sumažinimas: 1–2 diafragmos
• Šviesos pralaidumas: iki 99,6 %
• Atsparus vandeniui, alyvai ir įbrėžimams; antistatinis
• Dvigubas sriegis, skirtas sukrauti

Kodėl verta rinktis

Nano-C HMC danga atstumia vandenį ir alyvą, todėl filtrą lengva valyti ir prižiūrėti lauko sąlygomis. Didelis šviesos pralaidumas išsaugo vaizdo kokybę, o plonas rėmelis apsaugo nuo tamsių kampų plačiakampiuose kadruose. Priekinis sriegis leidžia sukrauti papildomus filtrus arba pritvirtinti objektyvo dangtelį nenuimant poliarizatoriaus.

Idealiai tinka

• Peizažo fotografijai: pagerina dangaus kontrastą ir augalijos spalvas
• Vandeniui ir stiklui: pašalina atspindžius, kad nuotraukos būtų aiškesnės
• Miesto scenoms: sumažina akinimą nuo langų ir automobilių
• Kelionėms: kompaktiškas ir patvarus, tinkamas fotografuoti keliaujant

Svarbu žinoti

Šis filtras tinka bet kokiam objektyvui su 58 mm filtro sriegiu. Jis sukasi, kad būtų galima reguliuoti poliarizacijos efektą, suteikiant kūrybinę kontrolę atspindžiams ir sodrumui. Dvigubo sriegio konstrukcija leidžia sukrauti kitus filtrus, tačiau kraunant gali padidėti vinjetė itin plačiakampiuose objektyvuose.