K&F Concept Nano-C HMC CPL apskritas poliarizacinis filtras 55 mm

„K&F Concept Nano-C HMC CPL“ apskritas poliarizacinis filtras yra aukštos kokybės optinis aksesuaras, skirtas fotografams, norintiems pagerinti vaizdo kokybę mažinant akinimą ir atspindžius. Su 55 mm skersmeniu ir pažangia daugiasluoksne danga šis filtras pagerina spalvų sodrumą ir kontrastą, kartu apsaugodamas objektyvą.

Privalumai

Šis apskritas poliarizacinis filtras efektyviai pašalina nepageidaujamus atspindžius nuo nemetalinių paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, pagilina mėlyną dangų ir padidina bendrą spalvų gyvumą. „Nano-C HMC“ daugiasluoksnė danga užtikrina daugiau nei 99,6 % šviesos pralaidumą, sumažindama atspindžius ir šešėlius. Itin plonas rėmelis (4,9 mm) apsaugo nuo vinjetavimo plačiakampiuose objektyvuose, o aviacinio aliuminio lydinio konstrukcija užtikrina ilgaamžiškumą nepridedant svorio.

Tinka

• Kraštovaizdžio fotografijai – pagerinti dangų ir augmeniją
• Vandens ir stiklo fotografijai – sumažinti atspindžius
• Portretams lauke – pagerinti odos tonus ir sumažinti akinimą
• Bet kokiai situacijai, kai naudinga kontroliuoti poliarizuotą šviesą

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: apskritas poliarizacinis (CPL)
• Filtro skersmuo: 55 mm
• Danga: Nano-C HMC (28 sluoksniai, po 14 kiekvienoje pusėje)
• Stiklo medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Rėmelio storis: 4,9 mm
• Šviesos pralaidumas: >99,6 %
• Poliarizacijos laipsnis: iki 99,9 %
• Atstumiantis vandenį, atsparus alyvai, atsparus įbrėžimams, antirefleksinis, antistatinis
• Filtro faktorius: 2–3 diafragmos
• Priekinis sriegis: taip (dangteliams arba krovimui)

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite šį filtrą su objektyvo gaubtu, kad sumažintumėte pašalinę šviesą. Prieš montuodami įsitikinkite, kad filtras yra švarus; valymui naudokite mikropluošto šluostę. Suderinamas su visais 55 mm sriegio objektyvais.