K&F Concept CPL NANO-X MRC 58mm apskritas poliarizacinis filtras

„K&F Concept CPL NANO-X MRC 58mm“ yra aukštos kokybės apskritas poliarizacinis filtras, skirtas sumažinti akinimą, pagerinti spalvų sodrumą ir patamsinti mėlyną dangų, kad nuotraukos būtų ryškesnės ir kontrastingesnės. Pagamintas iš japoniško AGC optinio stiklo su „Nano-X“ daugiasluoksne danga, šis filtras užtikrina išskirtinį šviesos pralaidumą ir ilgaamžiškumą.

Privalumai

Šis filtras efektyviai pašalina atspindžius nuo nemetalinių paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, todėl idealiai tinka kraštovaizdžio ir lauko fotografijai. Itin plonas rėmelis (3,3 mm) apsaugo nuo vinjetavimo naudojant plataus kampo objektyvus, o dvigubas sriegis leidžia montuoti papildomus filtrus. Hidrofobinės ir oleofobinės dangos atstumia vandenį ir aliejų, užtikrindamos lengvą valymą ir priežiūrą.

Tinka

• Fotografams, naudojantiems objektyvus su 58 mm filtro sriegiu
• Kraštovaizdžio, kelionių ir lauko fotografijai
• Atspindžių ant vandens, stiklo ir lapijos mažinimui
• Spalvų sodrumo ir kontrasto gerinimui ryškiomis sąlygomis

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: apskritas poliarizacinis (CPL)
• Filtro skersmuo: 58 mm
• Optinė medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Danga: „Nano-X“ daugiasluoksnė danga (MRC), 28 sluoksniai
• Šviesos pralaidumas: >99,6%
• Poliarizacijos laipsnis: 99,9%
• Atsparumas vandeniui: taip (hidrofobinis)
• Atsparumas aliejui: taip (oleofobinis)
• Atsparumas įbrėžimams: taip
• Antirefleksinis: taip
• Rėmelio dizainas: itin plonas (3,3 mm)
• Sriegis: dvigubas
• UV apsauga: taip

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite šį filtrą ryškioje saulės šviesoje, kad pagilintumėte mėlyną dangų ir sumažintumėte atspindžius. Prieš pirkdami įsitikinkite, kad jūsų objektyvas turi 58 mm filtro sriegį. Nenaudodami laikykite apsauginiame dėkle.