K&F Concept CPL NANO-X MRC 55mm apskrito poliarizacijos filtras

K&F Concept 55mm CPL NANO-X MRC filtras naudoja 28 sluoksnių daugiafunkcinę dangą ant japoniško AGC optinio stiklo, pasiekdamas iki 99,6% šviesos pralaidumą su neutraliu spalvų tikslumu. Šis apskritas poliarizacijos filtras pašalina atspindžius nuo nemetalinių paviršių, pagilina mėlyną dangų ir padidina spalvų sodrumą, visa tai itin ploname aviacinio aliuminio rėmelyje, kuris apsaugo nuo vinjetės plačiakampiuose objektyvuose.

Apžvalga

K&F Concept CPL NANO-X MRC 55mm yra aukščiausios klasės apskritas poliarizacijos filtras, sukurtas fotografams, kurie reikalauja optinės kokybės ir tvirtumo. Japoniškas AGC optinis stiklas poliruojamas pagal griežtus standartus, o tada padengiamas patentuota 28 sluoksnių NANO-X daugiafunkcine danga (14 sluoksnių kiekvienoje pusėje). Ši pažangi danga užtikrina išskirtinį atspindžių mažinimą, vandens ir aliejaus atstūmimą bei atsparumą įbrėžimams, todėl filtras išlieka švarus ir skaidrus net sudėtingomis sąlygomis.

Itin plonas rėmelis, pagamintas iš aviacinio aliuminio lydinio, yra tik 3,3 mm storio, todėl jis idealiai tinka plačiakampiams objektyvams, kuriuose svarbi vinjetė. Dvigubo sriegio dizainas leidžia pridėti papildomų filtrų arba tiesiogiai pritvirtinti objektyvo dangtelį prie priekio, užtikrinant lankstumą neprarandant vaizdo kokybės.

Pagrindiniai privalumai

• 28 sluoksnių NANO-X MRC danga: sumažina atspindžius ir vaiduoklius, atstumia vandenį, aliejų ir apsaugo nuo įbrėžimų.
• Japoniškas AGC optinis stiklas: užtikrina aukštą pralaidumą (iki 99,6%) ir neutralų spalvų balansą.
• Itin plonas 3,3 mm aviacinio aliuminio rėmelis: apsaugo nuo vinjetės plačiakampiuose objektyvuose.
• Dvigubo sriegio dizainas: leidžia sudėti filtrus arba pritvirtinti objektyvo dangtelius.
• Efektyvi poliarizacija: pašalina atspindžius nuo stiklo, vandens ir lapijos; pagilina mėlyną dangų; padidina kontrastą.

Techninės detalės

• Filtro tipas: apskritas poliarizacijos filtras (CPL)
• Filtro skersmuo: 55mm
• Optinė medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Danga: NANO-X daugiafunkcinė danga (MRC), iš viso 28 sluoksniai (14 kiekvienoje pusėje)
• Rėmelio medžiaga: aviacinio aliuminio lydinys
• Rėmelio storis: 3,3 mm (itin plonas)
• Šviesos pralaidumas: iki 99,6%
• Spalvų tikslumas: neutralus, be spalvų poslinkio
• Atsparus vandeniui: taip
• Atsparus aliejui: taip
• Atsparus įbrėžimams: taip
• Atspindžių mažinimas: taip
• Apsauga nuo akinimo: taip
• Sriegis: dvigubas (priekinis sriegis filtrams sudėti)
• Suderinamumas: objektyvai su 55mm filtro sriegiu

Mūsų verdiktas

K&F Concept CPL NANO-X MRC 55mm yra aukščiausios klasės poliarizacijos filtras, sujungiantis pažangiausią dangos technologiją su tvirta, itin plona konstrukcija. Jis užtikrina išskirtinį optinį našumą ir praktines funkcijas, kurios patenkins reiklius fotografus.