K&F Concept CPL NANO-X MRC 52mm apskritas poliarizacinis filtras

„K&F Concept CPL NANO-X MRC 52mm“ apskritas poliarizacinis filtras yra aukščiausios kokybės optinis priedas, skirtas fotografams, norintiems pagerinti vaizdo kokybę sumažinant akinimą ir atspindžius. Pagamintas iš japoniško AGC optinio stiklo ir pažangios „Nano-X“ dangos, šis filtras užtikrina išskirtinį aiškumą ir ilgaamžiškumą.

Privalumai

Šis apskritas poliarizatorius efektyviai pašalina nepageidaujamus atspindžius nuo nemetalinių paviršių, tokių kaip vanduo ir stiklas, tuo pačiu pagilindamas mėlyną dangų ir padidindamas spalvų sodrumą. Itin plonas rėmelis (3,3 mm) apsaugo nuo vinjetavimo plačiakampiuose objektyvuose, o dvigubas sriegis leidžia sukrauti papildomus filtrus. 28 sluoksnių danga užtikrina atsparumą vandeniui, aliejui ir įbrėžimams, užtikrindama ilgalaikį veikimą.

Tinka

• Kraštovaizdžio fotografijai – pagerinti dangų ir augmeniją
• Lauko portretams – sumažinti akinimą ant odos ir drabužių
• Produktų fotografijai – sumažinti atspindžius ant blizgių paviršių
• Kelionių ir gamtos fotografijai – ryškiems, kontrastingiems vaizdams

Pagrindinės specifikacijos

• Filtro tipas: apskritas poliarizacinis (CPL)
• Filtro skersmuo: 52 mm
• Stiklo medžiaga: japoniškas AGC optinis stiklas
• Rėmelio medžiaga: aviacinis aliuminio lydinys
• Dangos sluoksniai: 28 sluoksnių danga
• Dangos technologija: „Nano-X“ danga
• Rėmelio tipas: itin plonas
• Rėmelio storis: 3,3 mm
• Atsparumas vandeniui: taip
• Atsparumas aliejui: taip
• Atsparumas įbrėžimams: taip
• Antirefleksinis: taip
• Poliarizacijos laipsnis: iki 99,6 %
• Sriegis: dvigubas sriegis

Rekomendacijos

Geriausiems rezultatams naudokite šį filtrą su objektyvais, turinčiais 52 mm filtro sriegį. Įsitikinkite, kad filtras yra tvirtai pritvirtintas, ir sukite jį, kad pasiektumėte norimą poliarizacijos efektą. Valykite mikropluošto šluoste, kad išlaikytumėte dangos vientisumą.